Иcпaния – Микроелектронни машини и уреди и микросистеми – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Настоящият доклад има за цел да обосновае необходимостта и подходящестта за договарянето на доставката, инсталирането, пускането в експлоатация, валидирането и обучението, свързано с система за литография чрез директно лазерно писане (Direct Laser Writing, DLW), в съответствие с изискванията на чл. 28 от Закона 9/2017, от 8 ноември, за договорите от сектора на обществения сектор (LCSP), с който се превеждат в испанското праворед на Директивите на Европейския парламент и Съвета 2014/23/UE и 2014/24/UE, от 26 февруари 2014 г., както и в съответните разпоредби, които изискват изготвянето на доклад за недостатъчност на средства, необходимост и подходящест на договора преди началото на процедурата по договаряне. Оборудването ще бъде предназначено за Научната и техническата инфраструктура MICRONANOFABS, испанска мрежа от чисти помещения за микро и нанофабрикация, интегрирана в Националната карта на ICTS на компетентното министерство в областта на науката, в която влиза Научната инфраструктура за микро и нанофабрикация на Центъра за нанофотонна технология (NTC) на Университета Политехника де Валенсия (UPV), заедно с Националния център за микроелектроника (CSIC) и Централната технология на ISOM (UPM). Инсталацията ще бъде разположена в Чистата стая на сградата 8F на NTC-UPV. Центърът за нанофотонна технология развива дейности в областта на изследванията и производство в областите на интегрираната фотоника, нанотехнологиите, биосензорите, микрооптиката и микрофлуидните системи. Сред устройствата, които се произвеждат редовно, влизат интегрирани фотонични схеми (PICs), фотонични биосензори, наноантенни, оптични резонатори, фотонични кристали, дифракционни оптични елементи, металензи, микролензи, триизмерни структури, полученни чрез литография Gray Scale, устройства MEMS, микрофлуидни системи и фотонични хибридни компоненти и облекчения. Тези устройства изискват комбиниране на процеси на производство с нанометрови и микрометрови разделителни способности, високи нива на геометрична точност, многослойно подравняване и висока продуктивност, която да позволява производството на пълни устройства и пластини в срокове, съвместими с изследователската дейност и предоставянето на технологични услуги. За това е необходимо закупуването на система за литография, която да предлага едновременно висока разделителна способност, висока скорост на писане, механична стабилност, точност на позициониране и гъвкавост за работа с широк набор от материали и размери на субстрат. Като ICTS, интегриран в мрежата MICRONANOFABS, NTC-UPV предоставя услуги за микро и нанофабрикация на национални и международни изследователски групи, както и на компании, в рамките на конкурентни проекти, договори за трансфер на технологии и предоставяне на напреднали услуги. Оборудването ще стане част от научната инфраструктура на центъра и ще бъде използвано за развитие на национални и международни изследователски проекти, договори за трансфер на технологии с компании и предоставяне на услуги за производство на вътрешни и външни потребители. Тази условие за уникална инфраструктура за споделено ползване изисква поддържане на инструментална оборудване, актуализирана, устойчива и с характеристики, съответстващи на състоянието на изкуството, в съответствие с целите на PERTE Chip за укрепване на националните възможности в областта на микроелектрониката и фотониката. Договарянето е необходимо за изпълнението и реализацията на институционалните цели на ICTS MICRONANOFABS-NTC, няма достатъчно собствени средства, подходящи и налични за удовлетворяване на тази нужда, в съответствие с изискванията на чл. 28 от LCSP.