Фpaнция – Електромеханично оборудване – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, за своите дейности в областта на изследванията, които имат за цел да развиват технологиите FDSOI 10nm и по-нататък (FDSOI10), иска да придобие оборудване за гравиране FEOL/MEOL за своята чиста стая. Оборудването ще бъде способно да обработва вафери с диаметър 300mm и ще позволява високоселективно и изотропно гравиране на силиций (Si) и силиций-германий (SiGe). То включва следните задължителни опции:

- Опция 1: Процес 7 (гравиране на спейсър SiCO)

- Опция 2: Процес 8 (гравиране на спейсър и SADP)

- Опция 3: Поддръжка на ниво 1

Както и разходите за следните факултативни опции:

- Опция 4: Топлообменници (Heat exchangers) и системи за охлаждане (chillers) (Раздел 3.2.6)

- Опция 5: Електрически трансформатор (Power supply transformer) (Раздел 4.1.4)

- Опция 6: Поддръжка на ниво 2 (Глава 9)

- Опция 7: Превантивни, коррективни и услуги за поддръжка, както и необходимите запасни части (Раздел 12.2)