Nizozemsko – Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) – European Tender Electron Beam Lithography system

Univerzita Twente vyhlašuje výběrové řízení na nákup systému elektronové lituografie. MESA+ Institut Univerzity Twente investuje do nového elektronového systému (e-beam systému). Systém, který je vhodný pro definování vzorů v elektronově citlivých rezistech, s vysokým rozlišením a vysokou rychlostí, kompatibilní s širokým spektrem aplikací a typů substrátů až do 200 mm v průměru. Systém bude využíván širokým okruhem uživatelů, tj. akademickými výzkumníky a studenty, stejně jako průmyslovými inženýry s různými pozadími (fotonika, (nano)-elektronika atd.) a různými úrovněmi znalostí.