Přeskočit na obsah
Zpět na vyhledávání
Tato výzva vypršela.

Németország – Különféle különleges célú gépek – CMP Anlage

Universität SiegenNěmeckoPublikováno 21. 4. 2026
Deadline uplynul

Popis

Anlage zum Planarisieren und Glätten von Oberflächen mittels chemisch-mechanischem Polieren (CMP, chemical mechanical polishing) zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten

Kódy CPV

Miscellaneous special-purpose machinerySpecial-purpose machine toolsLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Dokumenty a podání

AI shrnutí
Přihlásit se pro AI shrnutí

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Související zakázky