Španělsko – Mikroelektronické stroje a mikrosoustavy – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Tento zprávy má za cíl zdůvodnit potřebu a vhodnost zakoupení dodávky, instalace, spuštění, validace a výcviku souvisejícího se systémem litografie psaním laserem (Direct Laser Writing, DLW), podle ustanovení článku 28 zákona 9/2017 ze dne 8. listopadu 2017 o smlouvách veřejného sektoru (LCSP), kterým se přenášejí do právního řádu Španělska směrnice Evropského parlamentu a Rady 2014/23/UE a 2014/24/UE ze dne 26. února 2014, stejně jako v souvisejících předpisech, které vyžadují vypracování zprávy o nedostatku prostředků, potřebě a vhodnosti smlouvy před zahájením řízení o zakoupení. Zařízení bude určeno pro Vědeckou a technickou singularní infrastrukturu (ICTS) MICRONANOFABS, španělskou síť čistých míst pro mikro a nanofabrikaci integrovanou do Národního mapy ICTS Ministerstva, který je kompetentní v oblasti vědy, jehož součástí je Infrastruktura mikro a nanofabrikace Centra nanofotonické technologie (NTC) Universitat Politècnica de València (UPV), společně s Národním centrem mikroelektroniky (CSIC) a Centrem technologie ISOM (UPM). Instalace bude umístěna v Čistém prostoru budovy 8F NTC-UPV. Centrum nanofotonické technologie vykonává výzkumné a výrobní činnosti v oblastech integrované fotoniky, nanoteknologie, biosenzoriky, mikrooptiky a mikrofluídických systémů. Mezi zařízeními, která se vyrábějí pravidelně, patří integrované fotonické obvody (PICs), fotonické biosenzory, nanoantény, optické rezonátory, fotonické krystaly, difrakční optické prvky, metalenzy a mikrolenzy, trojrozměrné struktury získané litografií Gray Scale, MEMS zařízení, mikrofluídní systémy a fotonické hybridní komponenty a obalování. Tyto zařízení vyžadují kombinaci výrobních procesů s nanometrickými a mikrometrickými rozlišeními, vysokými úrovněmi geometrické přesnosti, vícevrstvým zarovnáním a vysokou produktivitou, která umožňuje vyrobit kompletní zařízení a oble a v časech kompatibilních s výzkumnou činností a poskytováním technologických služeb. Proto je nutné získat systém litografie, který současně nabízí vysoké rozlišení, vysokou rychlost zápisu, mechanickou stabilitu, přesnost umístění a univerzálnost pro práci s širokým spektrem materiálů a velikostí substrátů. Jako ICTS integrovaná do sítě MICRONANOFABS poskytuje NTC-UPV služby mikro a nanofabrikace skupinám výzkumu na národní i mezinárodní úrovni, stejně jako firmám v rámci konkurzních projektů, smluv o technologické transferu a poskytování pokročilých služeb. Zařízení bude součástí vědecké infrastruktury centra a bude použito pro vývoj národních a mezinárodních výzkumných projektů, smluv o technologickém transferu s firmami a poskytování výrobních služeb vnitřním a vnějším uživatelům. Tato podmínka singularní infrastruktury sdíleného použití vyžaduje, aby byla vybavenost přístroji aktualizována, robustní a s výkonnostmi v souladu se současným stavem umění, v souladu s cíli PERTE Chip pro posílení národních kapacit v oblasti mikroelektroniky a fotoniky. Zakoupení je tedy nutné pro splnění a realizaci institucionálních cílů ICTS MICRONANOFABS-NTC, neexistují vlastní prostředky, které by byly vhodné, dostatečné a dostupné pro splnění této potřeby, v souladu s požadavky článku 28 LCSP.