Španělsko – Elektronické integrované obvody a mikrosestavy – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Provozování, které je předmětem tohoto řízení, je nutné k provedení výzkumu a vývoje pro Pilot Line UPV, s cílem zlepšit existující pokročilé pilotní linky a vyvinout nové po celé Unii, aby umožnily vývoj a nasazení předních technologií polovodičů a technologií polovodičů budoucích generací. K tomu je nutné provést nákup, mimo jiné, následujících zařízení: 4 • UPV04 - Elektronový litografický nástroj pro vločky do 8 palců: Zařízení pro litografii elektronovým paprskem, které exponuje vzory na citlivé rezistence pomocí soustředěného a skenovaného elektronového paprsku. Vytváří nanometrové charakteristiky podle návrhu v digitálním souboru. Vhodné pro nanofabrikaci, zvláště pro masky a struktury v fotonice, polovodičích a nanoteknologii. • UPV13 – SEM: Zařízení pro inspekci povrchů pomocí soustředěného elektronového paprsku, které poskytuje nanometrové rozlišení. Umí získávat morfologické informace a povrchový kontrast, stejně jako kontrast spojený s rozdíly ve složení nebo atomovém čísle, v závislosti na detektorech a režimech obrazu. Vhodné pro metrologii, inspekci a validaci procesu a kontrolu kvality. Vhodnost vybavení je založena na jeho schopnosti společně pokrývat požadavky na nanofabrikaci a metrologii, které jsou nutné pro výrobu v pilotní lince integrovaných hybridních fotonických obvodů. Tato schopnost umožňuje koordinovat definici parametrů expozice a bodů zájmu pro pozdější metrologii, integrovat post-procesní externí SEM inspekci a zajistit sledovatelnost a soulad dat generovaných během výrobního procesu.