Francie – Elektromechanická zařízení – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, pro své výzkumné aktivity, které mají za cíl vyvinout technologie FDSOI 10nm a dále (FDSOI10), chce získat zařízení pro vyrytí FEOL/MEOL pro svou čistou místnost. Zařízení bude schopno zpracovávat wafry o průměru 300 mm a umožní vyrytí vysokoselektivní a izotropické křemíku (Si) a křemíku-germanu (SiGe). Zahrnuje následující povinné volby:

- Volba 1: Process 7 (vyrytí spaceru SiCO)

- Volba 2: Process 8 (vyrytí spaceru a SADP)

- Volba 3: Úroveň 1 údržby

A také náklady na volitelné volby:

- Volba 4: Teploměny (Heat exchangers) a chladicí systémy (chillers) (Sekce 3.2.6)

- Volba 5: Elektrický transformátor (Power supply transformer) (Sekce 4.1.4)

- Volba 6: Pokročilá údržba (Kapitola 9)

- Volba 7: Preventivní, opravné služby a potřebné náhradní díly (Sekce 12.2)