Přeskočit na obsah
Zpět na vyhledávání

Španělsko – Mikroelektronické stroje a mikrosoustavy – Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Rectorado de la Universitat Politècnica de ValènciaŠpanělskoPublikováno 25. 10. 2026
7 dnů zbývá

Popis

Tým bude určen pro Singulární vědecko-technickou infrastrukturu (ICTS) MICRONANOFABS, španělskou síť čistých míst pro mikro a nanofabrikaci integrovanou do Národního mapy ICTS Ministerstva, které je kompetentní v oblasti vědy, a jeho součástí je Infrastuktura pro mikro a nano-fabrikaci Centra nanofotonické technologie (NTC) Univerzity Politècnica de València (UPV), spolu s Národním centrem mikroelektroniky (CSIC) a Technologickým centrem ISOM (UPM). Instalace bude umístěna v Čisté místnosti budovy 8F NTC-UPV. Centrum nanofotonické technologie vyvíjí procesy výroby integrovaných fotonických zařízení, biosenzorů, komponent integrované optiky, kvantových zařízení, mikroelektromechanických systémů (MEMS), mikrofluidických struktur a nanofotonických systémů na široké škále materiálů, včetně křemíku, křemičitanu, skla, křemene, materiálů III-V, dielektrických materiálů a hybridních struktur. Jako ICTS integrovaná do sítě MICRONANOFABS poskytuje NTC-UPV služby mikro a nanofabrikace výzkumným týmům na národní i mezinárodní úrovni, stejně jako firmám v rámci konkurzních projektů, smluv o technologickém přenosu a poskytování pokročilých služeb. Tato podmínka singularní infrastruktury sdíleného užívání vyžaduje udržování aktualizovaného, robustního a výkonového vybavení, které odpovídá současnému stavu techniky, a umožňuje reagovat na vlastní výzkumné linie i na vnější požadavky vědecké a průmyslové komunity v souladu s cíli PERTE Chip pro posílení národních kapacit v oblasti mikroelektroniky a fotoniky. Mnoho z zařízení, která se vyrábějí v infrastruktuře, vyžaduje procesy fyzického gravírování vysoké přesnosti na materiály, pro které konvenční chemické gravírovací (mokré) procesy nedávají potřebnou povrchovou kvalitu, anizotropii nebo selektivitu. Kromě toho rostoucí složitost vyvíjených zařízení vyžaduje disponování procesy s vysokou reprodukovatelností, s přesným kontrolou úhlu dopadu paprsku, vysokou stabilitou procesu, automatizací a neustálým monitorováním.

Kódy CPV

Microelectronic machinery and apparatus and microsystems

Dokumenty a podání

AI shrnutí
Přihlásit se pro AI shrnutí

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Související zakázky