Německo – Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

Ruhr-Universität Bochum zamýšlí zakoupit DRIE etzačku, která bude v laboratoři pro výzkum mikroelektroniky Bochum využívána pro substráty na základě waferů s průměrem až 200 mm. Zařízení má být použito v oblasti silikonových mikroelektromechanických systémů (MEMS) pro hluboké anisotropní silikonové etšování na bázi cyklického etšovacího procesu (DRIE, "BOSCH-proces") a dále sloužit k výzkumu nových etšovacích koncepcí, které využívají méně škodlivých etšovacích plynů pro klimu.