Švýcarsko – Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

EPFL plánuje v těsném spoluprací s Univerzitou v Ženevě (UNIGE) zakoupit vyspělé zařízení pro sputterové nanášení, které je speciálně navržené pro výrobu kvalitních supravodivých tenkých vrstev. Zařízení bude instalováno a provozováno v EPFL Center of MicroNanotechnology (EPFL CMi). CMi je centralizovaná zařízení pro mikro- a nanofabrikaci, které slouží všem fakultám EPFL a je otevřeno i externím univerzitám a místním průmyslovým partnerům (více než 600 aktivních uživatelů ročně). Nové zařízení bude využíváno pro výzkum na vrcholu v oblasti detektorů jednotlivých fotonů, s cílem uzavřít mezeru mezi výrobou v laboratoři a průmyslovou výrobou, umožňující nanášení na wafry o průměru 200 mm. Důraz se klade nejen na kvalitu nanášení a supravodivé vlastnosti tenkých vrstev, ale také na uživatelskou přívětlivost zařízení, jeho snadné a rychlé ovládnutí pro nové uživatele, stejně jako na jeho flexibilní, ale přesto robustní schopnost řídit procesy v prostředí výzkumu a vývoje. Velký důraz se klade také na blízkost a reaktivitu dodavatele v celém technickém podpůrám a procesní podpoře. V souladu s požadavky EPFL a vědeckými cíli CMi a UNIGE se klade zvláštní důraz na následující body: ● Kvalita, reprodukovatelnost a rovnoměrnost supravodivých tenkých vrstev. ● Integrace s našimi infrastrukturami.