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Tyskland – Mikroelektroniske maskiner, apparater og mikrosystemer – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieTysklandPubliceret den 24. mar. 2026
Ingen frist angivet
TysklandBeskrivelse
Fremstilling, distribution og service af plasmaætsanlæg (RIE/ICP-RIE) til mikro- og nanofabrikation. Yderligere detaljer kan findes i det tekniske kravsspecifikation.
CPV-koder
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
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