Nederlandene – Laboratorieudstyr, optisk udstyr og præcisionsudstyr (ikke briller) – European Tender Electron Beam Lithography system

Universitetet Twente udskriver en opkaldelse til indkøb af et Elektronstrålelitografisystem. MESA+ Instituttet på Universitetet Twente vil investere i et nyt Elektronstrålesystem (e-beam system). Et system, der er egnet til at definere mønstre i elektronfølsomme resist, med høj opløsning og høj hastighed, kompatibelt med et bredt udvalg af anvendelser og substrattypers op til 200 mm i diameter. Systemet vil blive brugt af en bred vifte af brugere, dvs. akademiske forskere og studerende samt industrielle ingeniører med forskellige baggrunde (fotonik, (nano)-elektronik osv.) og forskellige niveauer af ekspertise.