Spanien – Mikroelektroniske maskiner, apparater og mikrosystemer – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Den nærværende rapport har til formål at retfærdiggøre behovet og egnetheden af indkøbet af levering, installation, igangsættelse, validering og uddannelse tilknyttet et system af litografi ved direkte laserbearbejdning (Direct Laser Writing, DLW), i overensstemmelse med det, der er fastsat i artikel 28 af Lov nr. 9/2017, af 8. november, om offentlige kontrakter (LCSP), hvorved de europæiske parlamentets og rådets direktiver 2014/23/EU og 2014/24/EU, af 26. februar 2014, transponeres til det spanske retssystem, samt i de relevante bestemmelser, der kræver udarbejdelsen af en rapport om utilstrækkelighed af midler, behov og egnethed af kontrakten før indledningen af kontraktsproceduren. Udstyret vil blive anvendt i den Videnskabelige og Tekniske Infrastruktur Singular (ICTS) MICRONANOFABS, det spanske netværk af rene rum til mikro- og nanofabrikation, som er integreret i det nationale kort over ICTS fra det kompetente ministerium for videnskab, hvor der findes Mikro- og Nano-Fabrikationsinfrastrukturen for Nanofotonikcentret (NTC) ved Universitat Politècnica de València (UPV), sammen med det Nationale Center for Mikroelektronik (CSIC) og Teknologicentret for ISOM (UPM). Installationen vil blive placeret i det rene rum i bygning 8F på NTC-UPV. Nanofotonikcentret udfører forsknings- og fabrikationsaktiviteter inden for fotonik integration, nanoteknologi, biosensorik, mikrooptik og mikrofluidiske systemer. Blandt de enheder, der fremstilles på en daglig basis, findes integrerede fotoniske kredsløb (PICs), fotoniske biosensorer, nanoantener, optiske resonatorer, fotoniske krystaller, difraktive optiske elementer, metalenser og mikrolenser, tredimensionale strukturer fremstillet ved Gray Scale-litografi, MEMS-enheder, mikrofluidiske systemer og fotoniske hybride kapsler og komponenter. Disse enheder kræver en kombination af fabrikationsprocesser med nanometer- og micrometer-opløsning, høje niveauer af geometrisk præcision, multiclag-alinering og en høj produktivitet, der gør det muligt at fremstille komplette enheder og obleer i tider, der er kompatible med forskningsaktiviteten og leveringen af teknologiske tjenester. Derfor er det nødvendigt at erhverve et litografisk system, der samtidig tilbyder høj opløsning, høj skrivehastighed, mekanisk stabilitet, positioneringspræcision og fleksibilitet til at arbejde med en bred vifte af materialer og substratstørrelser. Som ICTS integreret i MICRONANOFABS-netværket yder NTC-UPV tjenester inden for mikro- og nanofabrikation til nationale og internationale forskningsgrupper samt virksomheder i rammerne af konkurrencedygtige projekter, teknologioverføringskontrakter og levering af avancerede tjenester. Udstyret vil blive en del af centrets videnskabelige infrastruktur og anvendes til udviklingen af nationale og internationale forskningsprojekter, teknologioverføringskontrakter med virksomheder og levering af fabrikationstjenester til interne og eksterne brugere. Denne betingelse som en singular infrastruktur til deling pålægger at opretholde en robust og ydelsesdygtig udstyrsbevilling, der er i overensstemmelse med den seneste teknologi, i overensstemmelse med målene for PERTE Chip til styrkelse af de nationale evner inden for mikroelektronik og fotonik. Indkøbet er derfor nødvendigt for at opfylde og realisere de institutionelle mål for ICTS MICRONANOFABS-NTC, og der findes ikke egne midler, der er tilstrækkelige, tilfredsstillende og tilgængelige for at opfylde dette behov, i overensstemmelse med det, der kræves i artikel 28 LCSP.