Spanien – Elektroniske integrerede kredsløb og mikrokomponentkredsløb – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Kontrateringen, der er genstand for denne sag, er nødvendig for at udføre forsknings- og udviklingsarbejde for Pilot Line ved UPV, med det formål at forbedre de eksisterende avancerede pilotlinjer og udvikle nye i hele Unionen, for at muliggøre udviklingen og udplaceringen af fremskredne halvlederteknologier og næste generation halvlederteknologier. Til dette formål er det nødvendigt at foretage indkøb, blandt andet, af følgende udstyr:

4

• UPV04 - Elektronstrålelitografisk udstyr op til 8-tommers wafer: Udstyr til litografi med elektronstråle, der eksponerer mønstre i resistens ved hjælp af en fokuseret og scannet elektronstråle. Skriver karakteristika med nanometrisk opløsning efter design i digital fil. Dedikeret til nanofabrikation, især for masker og strukturer i fotonik, halvledere og nanoteknologi.

• UPV13 – SEM: Udstyr til overfladeinspektion med en fokuseret elektronstråle, der leverer billeder med nanometrisk opløsning. Muliggør opnåelse af morfologisk og overfladekontrastinformation, samt kontrast forbundet med forskelle i sammensætning eller atomnummer, i overensstemmelse med de tilgængelige detektorer og billedemoder. Dedikeret til metrologi, inspektion og procesvalidering og kvalitetskontrol.

Udstyrets egnethed er grundlagt i dets evne til at dække de samlede krav om mønstering og metrologi, der er nødvendige for produktionen i pilotlinjen af hybrid integrerede fotoniske kredsløb. Denne evne gør det muligt at koordinere definitionen af eksponeringsparametre og punkter af interesse for efterfølgende metrologi, integrere den eksterne post-proces SEM-inspektion og sikre sporbarthed og konsistens i de data, der genereres under produktionsprocessen.