Sisu vaatamiseks vahele jätta
Tagasi otsingule

Hispaania – Mikroelektroonilised masinad ja aparaadid ning mikrosüsteemid – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Rectorado de la Universitat Politècnica de ValènciaHispaaniaAvaldatud 25. okt 2026
7 päeva jäänud

Kirjeldus

See teksti eesmärk on õigustada vajadus ja sobivus lepingule, mille eesmärk on tootmise, paigaldamise, käivitamise, valideerimise ja sellega seotud koolituse, mis on seotud otseselt laseriga kirjutatud litograafiasüsteemiga (Direct Laser Writing, DLW), vastavalt artiklile 28 Hispaania avaliku sektori lepingute seaduses (LCSP) 9/2017, 8. novembrist, mis transponeerib Hispaania õigusruumi Euroopa Parlamendi ja Nõukogu direktiivid 2014/23/UE ja 2014/24/UE, 26. veebruarist 2014, ning vastavalt seadustele, mis nõuavad lepingu vajalikkuse, sobivuse ja vahelehe koostamist, enne lepingu menetluse algust. Seade on mõeldud Ülikooliliste ja Tehnilise Teaduse ja Tehnoloogia Singulaar Infraestructura (ICTS) MICRONANOFABS, Hispaania mikro- ja nanofabrikatsiooni integraalse valge ruumi võrgu, mis on integreeritud Hispaania Teaduse Ministeeriumi ICTS kaardile, mille osa on Mikro- ja Nano Fabrikatsiooni Infraestructura Nanofotonic Technology Centre (NTC) Universitat Politècnica de València (UPV), koos Hispaania Nanomicroelektronika Keskusega (CSIC) ja ISOM (UPM) Tehnoloogia Keskusega. Seade paigaldatakse NTC-UPV 8F hoone valge ruumi. Nanofotonic Technology Centre tegeleb uurimise ja tootmisega fotonite integraalse, nanoteknoloogia, biosensori, mikrooptika ja mikrofluidi süsteemide valdkonnas. Seadmete hulka, mida tavaliselt toodetakse, kuuluvad integreeritud fotonitseirkleid (PICs), fotonilised biosensorid, nanoantenid, optilised resonatsid, fotonilised kristallid, optilised difraktsioonielemendid, metalensid ja mikrolensid, kolmemõõtmelised struktuurid, mis on saadud Gray Scale litograafiaga, MEMS seadmed, mikrofluidi süsteemid, fotonilised hübriidkomponendid ja kapslid. Need seadmed nõuavad nanomeetriliste ja mikromeetriliste tootmisprotsesside kombinatsiooni, kõrgete geomeetriliste täpsuse tasemeid, mitmekordset kihtide paigutust ja kõrget tootlikkust, mis võimaldab toota täielikke seadmeid ja obleasid ajas, mis on kooskõlas uurimistegevusega ja tehnoloogiliste teenuste osutamisega. Seetõttu on vaja osta litograafiasüsteem, mis pakub ühtlasi kõrget lahust, kiiret kirjutamise kiirust, mehaanilist stabiilsust, paigutuse täpsust ja mitmekülgsust, et töötada laia valiku materjalide ja substraadi suuruste peal. ICTS, mis on integreeritud MICRONANOFABS võrku, pakub NTC-UPV mikro- ja nanofabrikatsiooni teenuseid rahvusvahelistele uurimisrühmadele, ettevõtetele, konkurssiprojektide, tehnoloogiaülekande lepingute ja täiendavate teenuste raames. Seade kuulub keskuse teadusliku infrastruktuuri ja kasutatakse rahvusvaheliste uurimisprojektide, ettevõtete tehnoloogiaülekande lepingute ja tootmisteenuste osutamiseks sisemistele ja välistele kasutajatele. See ühiskasutusega singulaarse infrastruktuuri tingimus nõuab, et instrumentaalvarustus oleks uuendatud, kindel ja vastav seadmetele, mis on vastavad teaduse ja tehnoloogia seisukohale, mis on kooskõlas PERTE Chip eesmärkidega, et tugevdada riiklikke mikroelektronika- ja fotonilisi võimeid. Seetõttu on leping vajalik, et täita ja teostada ICTS MICRONANOFABS-NTC institutsionaalsed eesmärgid, ei ole piisavalt iseseisvaid, piisavaid ja saadavaid vahendeid, et täita seda vajadust, vastavalt artiklile 28 LCSP.

CPV koodid

Microelectronic machinery and apparatus and microsystems

Dokumendid & esitamine

AI kokkuvõte
Logi sisse AI kokkuvõtte jaoks

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Seotud hanked