Hispaania – Integraallülitused ja mikromoodulid – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

La lepingu objekt on vajalik, et viia läbi uurimise ja arenduse UPV Pilot Line'i jaoks, eesmärgiga parandada olemasolevad ja arendada uusi pilotlõngi kogu Liidus, et võimaldada edasijõudnud ja tuleviku pooljuhttehnoloogiate arendamine ja levitamine. Selleks on vajalik osta, muude seas, järgmised seadmed:

4 • UPV04 - Elektronkiirguslito- graafiaseadus kuni 8-tollistele vaikudele: Elektronkiirguslito- graafiaseadus, mis eksponeerib mustreid kiirgusega, mis on fokuseeritud ja skaneeritud, kiirgusega, mis on fokuseeritud ja skaneeritud. Kirjutab nanomeetrilise lahutusvõimega omadusi digitaalses disainifailis. Spetsiaalselt nanofabrikatsiooni mustrite jaoks, eriti fotoniliste, pooljuhtide ja nanoteknoloogia struktuuride jaoks. • UPV13 – SEM: Elektronkiirgusega pinnade inspektsiooniseadus, mis annab nanomeetrilise lahutusvõimega pildid. Lubab saada morfoloogilist ja pinnakontraasti informatsiooni, samuti kontraast, mis on seotud koostise või aatomiarvu erinevustega, sõltuvalt kasutatavatest detektoritest ja pildimoodustest. Spetsiaalselt metrologia, protsessi inspektsiooni ja valideerimise ja kvaliteedi kontrolli jaoks. Seadmete sobivus põhineb nende võimekusele täita ühiseks metrologia ja mustrite nõuded, mis on vajalikud hübriidsete integreeritud fotoniliste ringkondade tootmiseks pilotlõngil. See võimaldus võimaldab koordineerida eksponeerimise parameetrite ja metrologia huvipunktide määratlemist, integreerida postprotsessi välise SEM-inspektsiooni ja tagada andmete jälgitavus ja kooskõla, mis on loodud tootmisvoogus.