Rootsi – Tööstusmasinad – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala soovib osta sügavreaktsioonioonetaja (DRIE). Seadme eesmärk on üle kanda fotolitograafia ja elektronkiirguslitograafia poolt määratletud mustreid, mis katavad mustri suurusvahemiku kõik substraadivahemikud kuni mõne nanomeetri ulatuses. Süsteemit kasutatakse paljude operaatoreite poolt ülikooli laboratooriumis. See peab olema lihtne kasutada ja peab olema vastupidav sagedastele protsessimuutustele partiide vahel. Protsessid hõlmavad laia etenduse ulatuse: madalast kuni kõrgele etenduse kiirus, tärklitest, kõrge ühtluse, kõrge avaala, kõrge aspektisuhe ja nanomeetriseskaala. Süsteemi on mõeldud etendamiseks silikoni ja teiste silikoni etendusega sobivate materjalidega, fotoresiini ja tugevate maskidega mustrite loomiseks.