Prantsusmaa – Elektromehaanilised seadmed – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti ostab uurimistegevuste raames, mis sihtib FDSOI 10nm ja selle järel (FDSOI10) tehnoloogiate arendamise, puhastustöökoda jaoks FEOL/MEOL gravuuriseadme. Seade suudab töötleda 300mm vafraid ja võimaldab silitsiumi (Si) ja silitsium-germaniumi (SiGe) kõrge selektiivsuse ja isotroopse gravuuri. See sisaldab järgmiseid kohustuslikke valikuid:

- Valik 1: Protsess 7 (SiCO spacer gravuur)

- Valik 2: Protsess 8 (spacer ja SADP gravuur)

- Valik 3: Hooldusnõuete 1. taseme loomine

Nendele lisaks on valikulised valikud, mille hind on:

- Valik 4: Soojusvahetid (Heat exchangers) ja jahutussüsteemid (chillers) (Jaos 3.2.6)

- Valik 5: Elektrijaam (Power supply transformer) (Jaos 4.1.4)

- Valik 6: Täpsem hoolduskoolitus (Pealkiri 9)

- Valik 7: Ennetav ja korrigeeriv hooldus ning vajalikud asendusosad (Jaos 12.2)