Šveits – Laboriseadmed, optika- ja täppisinstrumendid (v.a klaasid) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

EPFL plaanib koos Genfi Ülikooli (UNIGE)ga osta uusimad sputterni kattumise seadmed, mis on eriti mõeldud kõrge kvaliteediga ülijuhtivate õhukeste kihtide valmistamiseks. Seade paigaldatakse ja käivitakse EPFL MikroNanotehnoloogia Keskuses (EPFL CMi). CMi on keskseks asutuseks mikro- ja nanotööstuse jaotamiseks, mis teenindab kõiki EPFL-i fakulteteid ja on avatud ka välisülikoolidele ja kohalikele tööstuspartneritele (üle 600 aktiivset kasutajat aastas). Uus seade kasutatakse tipptööstuseks ühekvantsfotonidetektorite valdkonnas, eesmärgiga sulgeda vahe laboritööstuse ja tööstusliku tootmise vahel, võimaldades kattumist 200 mm läbimõõduga vaferitel. Spetsiaalset tähelepanu pööratakse mitte ainult kattumise kvaliteedile ja ülijuhtivate kihtide omadustele, vaid ka seadmete kasutajakasulikkusele, kiirele ja lihtsale kasutajatele, nende protsessijuhtimisele, mis on nii paindlik kui ka vastupidav F&E keskkonnas. Samuti on tähelepanu suunatud tootja tehnilise toetuse ja protsessitoetuse reageerimisele. EPFL-i nõuete ja CMi ja UNIGE-i teaduslike eesmärkidega kooskõlas pööratakse tähelepanu järgmistele aspektidele: ● Ülijuhtivate õhukeste kihtide kvaliteedi, taastuvuse ja ühtluse. ● Integreerimine meie infrastruktuuridega.