Saksa – Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

Ruhr-Universität Bochum aikoo hankkia DRIE-ätelaitte, joka on tarkoitus käyttää Mikroelektroniikan tutkimislaboratoriossa Bochumissa Wafer-substraatteja, joiden halkaisija on enintään 200 mm. Se on tarkoitus käyttää silicium-pohjaisissa mikroelektromekaniikkajärjestelmissä (MEMS) syvän anisotropisen siliciumätkennän toteuttamiseksi perinteisen sykliäisen ätkenprossin (DRIE, "BOSCH-prosessi") avulla. Lisäksi se on tarkoitus käyttää uusien, vähemmän ilmastolle vaikuttavien ätzkaasujen tutkimiseen.