Saksa – Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) – OV_LK_08-26-0654 Cz-Züchtungsanlage-Oxide-2027

Toimitus "vapaa käytettävä paikka", asennus ja käynnistys Cz-kasvatukselle, joka on tarkoitettu oksideista yksikiteistä kasvatukseen. Lisäksi: Dokumentaation tarjoaminen, vastaanotto (tehtaan ja lopullinen vastaanotto), häiriötilanteessa palvelu. Laitteisto mahdollistaa oksideista yksikiteiden, erityisesti Ga₂O₃, kasvatuksen sulamasta Czochralski-menetelmällä. Saadaan kristallien halkaisijat 15 mm:stä enintään 100 mm:ään (4 tuumaa) sekä kristallien painot 60 g:sta 5 kg:aan. Kristallin kasvuprosessi tapahtuu kaksoisseinäisessä, vesijäähdytteisessä kammiossa teräksestä, jossa eri kaasuympäristöt voidaan säädellä ennen evakuoimista ja kaasuttamista. Prosessi suoritetaan paineessa, joka on välillä ilmakehänpaine ja lievä yli-paine (max. 500 mbar yli-paine) staattisessa tai virtaavassa kaasuympäristössä.