Sveitsi – Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

EPFL suunnittelee tiiviissä yhteistyössä Geneven yliopiston (UNIGE) kanssa hankkia erittäin moderni putteri-päällystyslaitos, joka on suunniteltu erityisesti korkealaatuisten suprajohtavien ohutkalvojen valmistukseen. Laitos asennetaan ja käynnistetään EPFL:n MikroNanoteknologian keskuksessa (EPFL CMi). CMi on keskitetty laitos mikro- ja nanovalmistukseen, joka palvelee kaikkia EPFL:n tiedekuntia ja on avoinna sekä ulkoisille yliopistoille että paikallisille teollisuuspartnerille (yli 600 aktiivista käyttäjää vuodessa). Uusi laitos käytetään huippututkimuksessa yksifotonidetektoreissa, ja sen tavoitteena on sulkea aukko laboratoriotuotannon ja teollisen tuotannon välillä mahdollistamalla päällystys 200 mm:n läpimittaisille levyille. Erityistä huomiota kiinnitetään sekä päällystysten laatuun että suprajohtavien ohutkalvojen ominaisuuksiin, mutta myös laitteiden käyttökelpoisuuteen, uusien käyttäjien nopeaan ja helppoon koulutukseen sekä niiden kestävään, mutta silti joustavaan kykyyn prosessin hallintaan tutkimus- ja kehitysympäristössä. Suurta arvoa annetaan myös toimittajan läheisyydelle ja reaktiokykyyn koko teknisen tuken ja prosessin tuen suhteen. EPFL:n vaatimusten sekä CMi:n ja UNIGE:n tieteellisten tavoitteiden mukaisesti painotetaan erityisesti seuraavia asioita:

● Suprajohtavien ohutkalvojen laatu, toistettavuus ja tasaisuus.

● Integraatio meidän infrastruktuureimme.