Séim le haghaidh an ábhar
Ar ais go lorg

An Ghearmáin – Microelectronic machinery and apparatus and microsystems – Reactive ion etcher

Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materiean GhearmáinFoilsithe ar 24 Márta 2026
Níl deireadh aon áit

Cur síos

Cruthaíocht, díolachán agus seirbhísí ar uirlisí áitíochta plásma (RIE/ICP-RIE) don mhicreafhábhrach agus nanafhábhrach. Foghlaim níos mó as an t-áireamh.

TED Notice 2022/S 000-000000

Supply, delivery and maintenance of plasma etching equipment (RIE/ICP-RIE) for micro- and nanofabrication. Please refer to the specification for more details.

Códanna CPV

Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Dátaí & iontráil

Coimriú AI
Logáil isteach don saorán AI

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Tairiscintí gaolmhara