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An Ghearmáin – Microelectronic machinery and apparatus and microsystems – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materiean GhearmáinFoilsithe ar 24 Márta 2026
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an GhearmáinCur síos
Cruthaíocht, díolachán agus seirbhísí ar uirlisí áitíochta plásma (RIE/ICP-RIE) don mhicreafhábhrach agus nanafhábhrach. Foghlaim níos mó as an t-áireamh.
TED Notice 2022/S 000-000000
Supply, delivery and maintenance of plasma etching equipment (RIE/ICP-RIE) for micro- and nanofabrication. Please refer to the specification for more details.
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Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
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