Švedska – Industrijski strojevi – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala namjerava kupiti dubinski reakcijski ionski graver (DRIE). Namjena alat je prijenos šablona definiranih na primjer foto- i elektronskim snopom litografije, pokrivajući veličinu šablona od svog podloga do nekoliko nanometara. Sustav će koristiti mnogi operateri u okruženju laboratorija sveučilišta. Morat će biti jednostavan za korištenje i neosjetljiv na česte promjene procesa između serija. Procesi uključuju širok raspon mogućnosti gravera: od niskog do visokog stupnja gravera, rezanje pločica, visoka uniformnost, visoko otvoreno područje, visok odnos aspekta i nanometarska skala. Sustav je namijenjen za graver silikona kao i drugih materijala kompatibilnih s graverom silikona, s fototražnim smolama i tvrdim maskama za šabloniranje.