Švedska – Industrijski strojevi – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala namjerava kupiti Duboki Reaktivni Ionski Eter (DRIE). Namjena alat je prijenos šablona definiranih na primjerom foto- i elektronskom snop litografijom, pokrivajući raspon veličine šablona od svih podloga do nekoliko nanometara. Sustav će koristiti mnogi operateri u laboratorijskom okruženju sveučilišta. Mora biti jednostavan za korištenje i neosjetljiv na učestale promjene procesa između serija. Procesi uključuju široki raspon mogućnosti gravira: od niskog do visokog stupnja gravira, rezanje pločica, visoku uniformnost, visoku otvorenu površinu, visok odnos aspekta i nanometarsku skalu. Sustav je namijenjen za gravira silicija, kao i drugih materijala kompatibilnih s gravira silicija, s fototvrdim smolama i tvrdim maskama za šabloniranje.