Francuska – Elektromehanička oprema – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, za svoje istraživačke aktivnosti, koje ciljaju na razvoj tehnologija FDSOI 10nm i dalje (FDSOI10), želi steći opremu za graviranje FEOL/MEOL za svoju čistu sobu. Oprema će biti sposobna za obradu wafera od 300 mm i omogućiti će visoko selektivno i izotropno graviranje silicija (Si) i silicij-germanija (SiGe). Uključuje sljedeće obavezne opcije: - Opcija 1: Proces 7 (graviranje spacer SiCO) - Opcija 2: Proces 8 (graviranje spacer i SADP) - Opcija 3: Održavanje Nivo 1 Također i trošak opcija po izboru: - Opcija 4: Toplinska razmjenjivača (Heat exchangers) i sustavi za hlađenje (chillers) (Poglavlje 3.2.6) - Opcija 5: Električni transformator (Power supply transformer) (Poglavlje 4.1.4) - Opcija 6: Napredno održavanje (Poglavlje 9) - Opcija 7: Usluge preventivnog, korektivnog održavanja i potrebnih rezervnih dijelova (Poglavlje 12.2)