Švicarska – Laboratorijska, optička i precizna oprema (osim naočala) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

EPFL planira u tesnoj suradnji s Sveučilištem u Ženevi (UNIGE) nabavu visokomodernog sustava za isparavanje, specijalno dizajniranog za proizvodnju visokokvalitetnih supralotivih tankih slojeva. Sustav će biti instaliran i operiran u EPFL Centru za MikroNanotehnologiju (EPFL CMi). CMi je centralizirana ustanova za mikro- i nanofabrikaciju, dostupna svim fakultetima EPFL-a, te i vanjskim sveučilištima i lokalnim industrijskim partnerima (preko 600 aktivnih korisnika godišnje). Novi sustav će se koristiti za vrhunska istraživanja u području detektora pojedinačnih fotona, s ciljem da se premosti razmak između laboratorijske proizvodnje i industrijske proizvodnje, omogućujući isparavanje na waferima promjera 200 mm. Poseban naglasak stavlja se ne samo na kvalitetu isparavanja i supralotivne osobine tankih slojeva, već i na korisničku prijatnost sustava, jednostavnost i brzinu učenja za nove korisnike, te na njihovu fleksibilnost, ali ipak robustnu sposobnost kontrole procesa u istraživačkom i razvojnom okruženju. Velika pažnja posvećuje se i bliskosti i odgovornosti dobavljača u pogledu cjelokupne tehničke podrške i podrške procesa. U skladu s zahtjevima EPFL-a, kao i s znanstvenim ciljevima CMi i UNIGE, posebno se ističu sljedeći aspekti: ● Kvaliteta, reprodukcibilnost i jednoličnost supralotivih tankih slojeva. ● Integracija s našim infrastrukturama.