Tartalomhoz ugrás
Vissza a kereséshez
Ez a kiválasztás lejárt.

Hollandia – Laboratóriumi, optikai és precíziós felszerelések (kivéve szemüvegek) – European Tender Electron Beam Lithography system

Universiteit TwenteHollandiaMegjelent 2026. júl. 08.
Határidő lejárt

Leírás

A Twentei Egyetem pályázatot ír ki egy elektronpálya litográfiai (e-beam) rendszer beszerzésére. A Twentei Egyetem MESA+ Intézetében egy új elektronpálya rendszer (e-beam rendszer) beszerzésére kerül sor. A rendszer alkalmas lehet a magas felbontású és magas sebességű, elektronérzékeny rezisztben minták meghatározására, és kompatibilis lehet széles körű alkalmazásokkal és szubsztráttípusokkal, akár 200 mm átmérőig. A rendszert széles körű felhasználók fogják használni, azaz akadémiai kutatók és diákok, valamint ipari mérnökök különböző háttérrel (fotonika, (nano)-elektronika stb.) és különböző szakmai tapasztalattal.

CPV kódok

Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)Electron-beam recorders

Dokumentumok és benyújtás

AI összefoglaló
Jelentkezzen be egy AI összefoglalóhoz

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Kapcsolódó közbeszerzések