Svezia – Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri) – Electron Beam Lithography (EBL) Tool

Lund University, Department of Physics, Lund Nano Lab sta acquisendo uno strumento di Litografia a Fasci di Elettroni. Lo strumento è destinato alla realizzazione di modelli ad alta risoluzione e ripetibili, dotato di un grande campo di scrittura per la modellazione ad alto rendimento e routine di autocalibrazione automatiche per supportare esposizioni prolungate con errori minimi dovuti alla deriva del fascio. Infine, il suo sistema di caricamento dei campioni flessibile deve essere configurato per una vasta gamma di campioni, da piccoli pezzi utilizzati per la scienza di base, a wafer fino a 8" di diametro per i test di produzione pilota. Con queste proprietà, lo strumento di Litografia a Fasci di Elettroni diventerà una parte centrale dell'infrastruttura di fabbricazione del Lund Nano Lab e supporterà una gamma di applicazioni come dispositivi quantistici, elettronica ad alta potenza, metasuperfici e altro. Oltre allo strumento, la gara d'appalto deve includere tutti i costi associati come garanzia, imballaggio, assicurazione, installazione in loco, collaudo, FAT, SAT, dazi e trasporto, formazione, documentazione, supporto, sviluppo/aggiornamenti software, costi relativi all'Ordinanza sulla Responsabilità del Produttore per l'Imballaggio (2022:1274) ecc.