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Germania – Macchinari, apparecchiature e microsistemi microelettronici – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieGermaniaPubblicato il 24 mar 2026
Nessuna scadenza indicata
GermaniaDescrizione
Produzione, distribuzione e assistenza di impianti di incisione al plasma (RIE/ICP-RIE) per la micro e nanofabbricazione. Ulteriori dettagli sono disponibili nel capitolato tecnico.
Codici CPV
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Documenti e invio
Riepilogo AI
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