Spagna – Macchinari, apparecchiature e microsistemi microelettronici – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Il presente rapporto ha lo scopo di giustificare la necessità e l'idoneità della contrattazione del fornitura, installazione, messa in funzione, validazione e formazione associata a un sistema di litografia per scrittura diretta mediante laser (Direct Laser Writing, DLW), secondo quanto stabilito dall'articolo 28 della Legge 9/2017, dell'8 novembre, sui Contratti del Settore Pubblico (LCSP), con la quale vengono trasposte nell'ordinamento giuridico spagnolo le Direttive del Parlamento Europeo e del Consiglio 2014/23/UE e 2014/24/UE, del 26 febbraio 2014, nonché nei preetti concordanti che richiedono la redazione di un rapporto di insufficienza dei mezzi, necessità e idoneità del contratto con carattere previo all'inizio della procedura di contrattazione. L'equipaggiamento sarà destinato alla Infraestructura Científica y Técnica Singular (ICTS) MICRONANOFABS, rete spagnola di sale bianche di micro e nanofabricazione integrata nel Mapa Nacional de ICTS del Ministero competente in materia di scienza, di cui fa parte la Infraestructura de Micro y Nano Fabricación del Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) della Universitat Politècnica de València (UPV), insieme con il Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) e la Central de Tecnología del ISOM (UPM). L'installazione sarà ubicata nella Sala Blanca dell'edificio 8F del NTC-UPV. Il Centro de Tecnología Nanofotónica sviluppa attività di ricerca e fabbricazione nei settori della fotonica integrata, la nanotecnologia, la biosensórica, la microottica e i sistemi microfluidici. Tra i dispositivi che vengono fabbricati abitualmente si includono circuiti fotonici integrati (PICs), biosensori fotonici, nanoantenne, risonatori ottici, cristalli fotonici, elementi ottici diffrattivi, metalenti e microlenti, strutture tridimensionali ottenute mediante litografia Gray Scale, dispositivi MEMS, sistemi microfluidici, e incapsulamenti e componenti ibridi fotonici. Questi dispositivi richiedono di combinare processi di fabbricazione con risoluzioni nanometriche e micrometriche, elevati livelli di precisione geometrica, allineamento multicapa e una elevata produttività che permetta di fabbricare dispositivi completi e wafer in tempi compatibili con l'attività di ricerca e la prestazione di servizi tecnologici. Perciò, è necessaria l'acquisizione di un sistema di litografia che offra simultaneamente un'elevata risoluzione, grande velocità di scrittura, stabilità meccanica, precisione di posizionamento e versatilità per lavorare su una vasta gamma di materiali e dimensioni di substrato. Come ICTS integrata nella rete MICRONANOFABS, il NTC-UPV fornisce servizi di micro e nanofabricazione a gruppi di ricerca nazionali e internazionali, nonché a imprese, nel quadro di progetti competitivi, contratti di trasferimento tecnologico e prestazione di servizi avanzati. L'equipaggiamento farà parte dell'infrastruttura scientifica del centro e sarà utilizzato per lo sviluppo di progetti di ricerca nazionali e internazionali, contratti di trasferimento tecnologico con imprese e prestazione di servizi di fabbricazione a utenti interni ed esterni. Questa condizione di infrastruttura singolare di uso condiviso obbliga a mantenere una dotazione strumentale aggiornata, robusta e con prestazioni in linea con lo stato dell'arte, in linea con gli obiettivi del PERTE Chip per il rafforzamento delle capacità nazionali di microelettronica e fotonica. La contrattazione risulta, pertanto, necessaria per il rispetto e la realizzazione degli scopi istituzionali della ICTS MICRONANOFABS-NTC, non esistendo mezzi propri adeguati, sufficienti e disponibili per soddisfare questa necessità, nei termini richiesti dall'articolo 28 LCSP.