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Italia – Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici – Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Istituto Italiano di TecnologiaItaliaPubblicato il 30 lug 2026
7 giorni rimasti
ItaliaDescrizione
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Codici CPV
Research, testing and scientific technical simulator
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