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Italia – Ricerca, sperimentazione e simulatori tecnico-scientifici – Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Istituto Italiano di TecnologiaItaliaPubblicato il 14 set 2026
Scadenza superata
ItaliaDescrizione
Fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Codici CPV
Research, testing and scientific technical simulator
Documenti e invio
Riepilogo AI
Accedi per un riepilogo AIContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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