Svizzera – Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

L'EPFL pianifica, in stretta collaborazione con l'Università di Ginevra (UNIGE), l'acquisizione di un impianto di deposizione a sputtering ad alta tecnologia, progettato specificamente per la produzione di strati sottili superconduttori di alta qualità. L'impianto sarà installato e gestito presso il Centro di MicroNanotecnologia dell'EPFL (EPFL CMi). Il CMi è una struttura centralizzata per la micro e nanofabbricazione, che serve tutte le facoltà dell'EPFL e che è aperta sia a università esterne che a partner industriali locali (oltre 600 utenti attivi all'anno). Il nuovo impianto sarà utilizzato per la ricerca di punta nel campo dei rilevatori di fotoni singoli, con l'obiettivo di colmare il divario tra la produzione in laboratorio e quella industriale, permettendo la deposizione su wafer con un diametro di 200 mm. Particolare attenzione sarà prestata non solo alla qualità delle deposizioni e alle proprietà superconduttive degli strati sottili, ma anche alla facilità d'uso dell'impianto, alla sua semplice e rapida formazione per nuovi utenti, nonché alla sua capacità flessibile ma robusta di controllo del processo in un ambiente di ricerca e sviluppo. Grande importanza sarà data anche alla vicinanza e alla reattività del fornitore in termini di supporto tecnico completo e supporto al processo. In linea con i requisiti dell'EPFL e gli obiettivi scientifici del CMi e dell'UNIGE, particolare attenzione sarà prestata ai seguenti punti: ● Qualità, riproducibilità e uniformità degli strati sottili superconduttori. ● Integrazione con le nostre infrastrutture.