Praleisti į turinį
Grįžti į paiešką

Vokietija – Mikroelektronikos įrenginiai ir aparatai bei mikrosistemos – Reactive ion etcher

Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieVokietijaPaskelbta 2026-03-24
Nenurodytas galutinis terminas

Aprašymas

Plazmos jėgos erozijos (RIE/ICP-RIE) įrenginių gamyba, platinimas ir aptarnavimas mikro- ir nanotechnologijų gamybai. Daugiau informacijos galite rasti techniniame užsakymo aprašyme.

CPV kodai

Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Dokumentai ir pateikimas

AI santrauka
Prisijunkite, kad gautumėte AI santrauką

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Susiję pirkimai