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Vokietija – Mikroelektronikos įrenginiai ir aparatai bei mikrosistemos – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieVokietijaPaskelbta 2026-03-24
Nenurodytas galutinis terminas
VokietijaAprašymas
Plazmos jėgos erozijos (RIE/ICP-RIE) įrenginių gamyba, platinimas ir aptarnavimas mikro- ir nanotechnologijų gamybai. Daugiau informacijos galite rasti techniniame užsakymo aprašyme.
CPV kodai
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Dokumentai ir pateikimas
AI santrauka
Prisijunkite, kad gautumėte AI santraukąContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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