Praleisti į turinį
Grįžti į paiešką

Ispanija – Mikroelektronikos įrenginiai ir aparatai bei mikrosistemos – Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Rectorado de la Universitat Politècnica de ValènciaIspanijaPaskelbta 2026-11-08
3 dienos liko

Aprašymas

Komanda bus skirti mokslinėms ir techninėms singularioms infrastruktūroms (ICTS) MICRONANOFABS, ispaniškai mikro ir nanofabrikavimo salų tinklui, integravusiam į Nacionalinį ICTS žemėlapią, kuriam priklauso Mikro ir Nano Fabrikavimo Infrastruktūra Centro de Tecnología Nanofotónica (NTC) de la Universitat Politècnica de València (UPV), kartu su Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) ir Central de Tecnología del ISOM (UPM). Įrenginys bus įrengtas NTC-UPV 8F pastato Baltojoje salėje. Centro de Tecnología Nanofotónica vykdo fotoninių įrenginių, biosensorų, optinių integravimo komponentų, kvantinių įrenginių, mikroelektromechaninių sistemų (MEMS), mikrofluidinės struktūros ir nanofotoninių sistemų gamybos procesus įvairiomis medžiagomis, įskaitant silicio, silicio nitridą, stiklą, kvarcą, III-V medžiagas, dielektrines medžiagas ir hibridines struktūras. Kaip ICTS, integravusi MICRONANOFABS tinklą, NTC-UPV teikia mikro ir nanofabrikavimo paslaugas nacionaliniams ir tarptautiniams tyrimų grupėms, taip pat įmonėms, kompetityvaus projektų, technologijų pervedimo sutarčių ir aukštųjų paslaugų teikimo rėmuose. Ši singularios bendros naudojimo infrastruktūros būsena reikalauja išlaikyti aktualizuotą, patikimą ir aukštos kokybės įrangą, atitinkančią pasaulio lygį, kuri leidžia atsakyti tiek į savų tyrimų linijų, tiek į išorinės mokslinės ir pramonės bendruomenės poreikius, atitinkant PERTE Chip tikslus, siekiant sustiprinti nacionalines mikroelektronikos ir fotonikos galimybes. Dauguma įrenginių, kurie gaminami infrastruktūroje, reikalauja aukštos precizės fizinių graviravimo procesų, kuriuos paprastieji cheminiai (švarkiai) graviravimo procesai negali užtikrinti reikiamos paviršiaus kokybės, anisotropijos ar selektyvumo. Be to, didėjančios įrenginių sudėtingumo reikalauja turėti labai atkartojamus procesus, su tikslu kontroliuojamu spinduliuojančio šviesos kampu, aukšta proceso stabilumu, automatizacija ir nepertrūkstama monitoringas.

CPV kodai

Microelectronic machinery and apparatus and microsystems

Dokumentai ir pateikimas

AI santrauka
Prisijunkite, kad gautumėte AI santrauką

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Susiję pirkimai