Ispanija – Elektroniniai integriniai grandynai ir mikromazgai – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Kontratacija, kurios šis dokumentas aprašo, yra būtina, kad būtų atlikti tyrimai ir plėtra, skirti UPV Pilot Line, siekiant pagerinti esančias piloto linijas ir sukurti naujas visoje Sąjungoje, kad būtų galima vystyti ir plėsti vanguardinių puslaidininkių technologijų ir kitos kartos puslaidininkių technologijų. Siekiant tai pasiekti, reikia įsigyti, tarp kitų, šiuos įrenginius:

4

• UPV04 - Elektroninio šviesos litografijos įrenginys iki 8 colio plokštelių: Elektroninio šviesos litografijos įrenginys, kuris eksponuoja modelius jautrioms medžiagoms, naudodamas fokusuotą ir skenuojamą elektronų šviesą. Rašo nanometrinės išraiškos charakteristikas pagal digitalų failą. Skirtas nanofabrikavimo modeliavimui, ypač maskėms ir fotonikos, puslaidininkių ir nanoteknologijų struktūroms.

• UPV13 – SEM: Elektroninio šviesos skenavimo mikroskopas, kuris siunčia nanometrinės išraiškos atvaizdus. Leidžia gauti morfologinę ir paviršiaus kontrastą, taip pat kontrastą, susijusį su skirtingais sudėtimi arba atominiu numeriu, priklausomai nuo naudojamų detektorių ir atvaizdų režimų. Skirtas metrologijai, procesų inspekcijai ir validacijai, taip pat kokybės kontrolėms.

Šio įrenginio tinkamumas remiasi jo galimybe bendrai atitikti patarnavimo ir metrologijos reikalavimus, kurie yra būtini piloto linijai, gamindant hibridinius fotoninius integrinius grandynes. Ši galimybė leidžia koordinuoti eksponavimo parametrų ir metrologijos taškų apibrėžimą, integruoti post-procesinį išorinį SEM tyrimą ir užtikrinti duomenų, kurių generavimo metu, sekamumą ir konsistenciją gamybos procese.