Vokietija – Laboratorinė, optinė ir precizinė įranga (išskyrus akinius) – OV_LK_08-26-0654 Cz-Züchtungsanlage-Oxide-2027

Pristatymas „laisvai naudojamoji vieta“, įrengimas ir įjungimas Czochralski kristalų auginimo įrenginio, skirtų oksidinių vienkristalių auginimui. Be to: dokumentacijos parengimas, priėmimas (gamybinis ir galutinis priėmimas), aptarnavimas stygiaus atveju. Šis įrenginys leidžia auginam oksidinius vienkristalius, ypač Ga₂O₃, iš lydinio Czochralski metodu. Gaunami kristalų skersmenys nuo 15 mm iki 100 mm (4 coliai) ir kristalų svoris nuo 60 g iki 5 kg. Kristalų augimo procesas vyksta dvigubos sienos, vandeniu aušinamoje kameroje iš nerūdijančio plieno, kurioje, išpumpavus orą ir užpildžius dujomis, sukuriamos skirtingos dujų atmosferos. Procesas vyksta tarp atmosferinio slėgio ir mažo perviršo (iki 500 mbar perviršo) statinėje arba srauniojoje dujų atmosferoje.