Spānija – Mikroelektronikas ierīces un aparāti un mikrosistēmas – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Šis informējums ir paredzēts, lai pamatotu nepieciešamību un piemērotību piegādes, instalācijas, iedarbināšanas, validācijas un apmācības saistībā ar tiešās laserrakstīšanas litogrāfijas sistēmu (Direct Laser Writing, DLW) kontratēšanai, saskaņā ar 28. pantu no 2017. gada 8. novembra 9. likuma par Publiskā sektora līgumiem (LCSP), ar kuru spēkā stājas Eiropas Parlamenta un Padomes direktīvas 2014/23/UE un 2014/24/UE no 2014. gada 26. februāra, kā arī saskaņā ar saskaņotajiem noteikumiem, kas prasa izstrādāt nepieciešamības, piemērotības un līdzekļu trūkuma informāciju pirms kontratēšanas procesa sākuma. Ierīce tiks izmantota Zinātniskajā un Tehniskajā Singulārajā Infrastruktūrā (ICTS) MICRONANOFABS, Spānijas tīklā ar mikro un nanofabrikācijas integrētajām tīrās telpās, kas ir iekļauta Nacionālajā ICTS kartē pie Ministrijas, kas atbild par zinātni, un kurā ietilpst Mikro un Nano Fabrika Infrastruktūra Nanofotonikas Tehnoloģiju Centrā (NTC) Valensijas Politehniskajā Universitātē (UPV), kopā ar Nacionālo Mikroelektronikas Centru (CSIC) un ISOM (UPM) Tehnoloģiju Centru. Iestatīšana tiks veikta 8F ēkas tīrajā telpā NTC-UPV. Nanofotonikas Tehnoloģiju Centrs veic pētījumu un ražošanas darbības fotonikas integrācijas, nanoteknoloģiju, biosensoru, mikrooptikas un mikrofluīdu sistēmu jomās. No ierīcēm, kas parasti tiek ražotas, ietilpst integrēti fotoniskie šķēršļi (PICs), fotoniskie biosensori, nanoantēnas, optiskie rezonatori, fotoniskie kristāli, optiskie difrakcijas elementi, metalenses un mikrolenses, trīsdimensiju struktūras, iegūtas ar Gray Scale litogrāfiju, MEMS ierīces, mikrofluīdu sistēmas un fotoniskie hibrīdi un kapsulēti komponenti. Šīs ierīces prasa kombinēt ražošanas procesus ar nanometru un mikrometru izšķirtspēju, augstiem ģeometriskās precizitātes līmeņiem, daudzkārtēju izlīdzināšanu un augstu produktivitāti, kas ļautu ražot pilnīgas ierīces un obleas laikā, kas ir saskaņots ar pētījumu aktivitāti un tehnoloģisko pakalpojumu sniegšanu. Tādēļ ir nepieciešama litogrāfijas sistēmas iegāde, kas vienlaicīgi piedāvā augstu izšķirtspēju, lielu rakstīšanas ātrumu, mehānisku stabilitāti, pozicionēšanas precizitāti un daudzveidību, lai strādātu ar dažādiem materiāliem un substrātu izmēriem. Kā ICTS, kas ir iekļauts MICRONANOFABS tīklā, NTC-UPV nodrošina mikro un nanofabrikācijas pakalpojumu nacionāliem un starptautiskiem pētniecības grupām, kā arī uzņēmumiem, konkurētspējīgu projektu, tehnoloģisko pārneses līgumu un augstas līmeņa pakalpojumu sniegšanas ietvaros. Ierīce tiks iekļauta centra zinātniskajā infrastruktūrā un tiks izmantota nacionālo un starptautisko pētījumu projektu, tehnoloģisko pārneses līgumu ar uzņēmumiem un ražošanas pakalpojumu sniegšanas nacionāliem un starptautiskiem lietotājiem attīstībai. Šī singularās koplietošanas infrastruktūras apstākļi prasa uzturēt instrumentu aprīkojumu, kas ir atjaunināts, izturīgs un atbilst pašreizējam līmenim, saskaņā ar PERTE Chip mērķiem, lai pastiprinātu nacionālo mikroelektronikas un fotonikas spējas. Tādēļ kontratēšana ir nepieciešama, lai izpildītu un realizētu ICTS MICRONANOFABS-NTC institucionālos mērķus, jo nav pietiekami līdzekļi, lai atbilstu nepieciešamībām, kā prasa 28. pants LCSP.