Vjaġġa lill-kontenut
Regħa għall-ftit

L-Iżvezja – Tagħmir tal-laboratorju, ottiku u ta' preċiżjoni (minbarra nuċċalijiet) – Electron Beam Lithography (EBL) Tool

Lunds universitetl-IżvezjaNpubblikat fi 06 Ott 2026
15 ajam left

Deskrizzjoni

L-Università ta' Lund, Departament tal-Fizika, Lund Nano Lab qed jista' jħalluha Instrument ta' Litografija bil-Beam tal-Elektroni. L-instrument jidher li jkun għal patterning ta' alta risoluzzjoni, ripetibbli, mibgħut bi kamp ta' skrittura kbira għal patterning ta' alta throughput, u rutin ta' self-kalibrazzjoni awtomatizzata li tsuppurtat ekspożizzjonijiet ta' durata ta' żmien għal minum tal-erruri li jkunu qed jitħalla mill-beam drift. Finalment, il-sistema ta' load ta' campjoni flessibbli tiegħu tħtiegħu tkonfigurata għal varjetà ta' campjoni minn qasir li jintużaw għal il-ħidma tal-bażika tal-ħidma, jew wafers sa 8" fid-diametru għal test ta' pilot prodott. B'dawn il-proprjetà, l-Instrument ta' Litografija bil-Beam tal-Elektroni se jkun parti ċentrali tal-infrastruttura tal-fabrikazzjoni tal-Lund Nano Lab u jsuppurtat varjetà ta' applikazzjonijiet bħal dispositivi quanti, elektronika ta' alta potenza, metasurfaces u aktar. Ma' l-instrument, il-licitazzjoni tħtiegħu tinkludi kull kost ta' assocjazzjoni bħal garantija, imballaġ, assigurazzjoni, installazzjoni fuq il-post, kommissjon, FAT, SAT, drittijiet u trasport, trening, dokumentazzjoni, suppurt, żvilupp/agġornamenti tal-programm, karigi taħt l-Ordinanza dwar il-Responsabbiltà tal-Produttur għall-Impakk (2022:1274) u aktar.

Kodi CPV

Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Dokumenti & sottomissjoni

Riżumat tal-Intelligenza Artifiċjali
Iġib il-ħdan għal riżumat tal-Intelligenza Artifiċjali

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Offerti relatati