Regħa għall-ftit
Il-Ġermanja – Makkinarju, u apparat, mikro-elettroniku u mikro-sistemi – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materieil-ĠermanjaNpubblikat fi 24 Mar 2026
Ma ħuwax deadline
il-ĠermanjaDeskrizzjoni
Produzzjoni, distribuzzjoni u servizz ta' apparati ta' plasma etching (RIE/ICP-RIE) għall-mikro- u nanofabrikazzjoni. L-istess jistgħu jkunu jitlbu mill-istudju tal-ħaġaġ.
Kodi CPV
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Dokumenti & sottomissjoni
Riżumat tal-Intelligenza Artifiċjali
Iġib il-ħdan għal riżumat tal-Intelligenza ArtifiċjaliContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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