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L-Italja – Simulaturi tekniċi ta' riċerka, ittestjar u xjentifiċi – Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

Istituto Italiano di Tecnologial-ItaljaNpubblikat fi 30 Lul 2026

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Deskrizzjoni

Fornitura ta' sistem għall-riċettività tal-jonizzazzjoni reattiva assistita mill-plasma accoppiata induttivament (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)

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