Franza – Apparat elettro-mekkaniku – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

Il-ĊEA Leti, għall-aktivitajiet ta’ riċerka tiegħu li jirrikedew il-teknoloġiji FDSOI 10nm u wara (FDSOI10), jidher li jħallqu l-istrument ta’ gravura FEOL/MEOL għall-kamra bianka tiegħu. L-istrument jista’ jittratta wafers ta’ 300mm u jippermetti l-gravura ta’ selettività u izotropija ta’ l-siliku (Si) u siliku-ġermanju (SiGe). Jinkludi l-opżjonijiet ta’ rispost obligatorja li jgħidu: - Opżjoni 1: Process 7 (gravura tas-spacer SiCO) - Opżjoni 2: Process 8 (gravura tas-spacer u SADP) - Opżjoni 3: Formazzjoni ta’ manteniment Nivel 1 Uża l-kostu tal-opżjonijiet ta’ rispost opzjonali: - Opżjoni 4: Sħaħar ta’ skambju tal-ħarara (Heat exchangers) u sistemi ta’ trefa (chillers) (Sezzjoni 3.2.6) - Opżjoni 5: Transformatur elettriku (Power supply transformer) (Sezzjoni 4.1.4) - Opżjoni 6: Formazzjoni ta’ manteniment Avanzat (Kapitlu 9) - Opżjoni 7: Servizzi ta’ manteniment preventiv, korrettiv u pezzetti ta’ skambju neċessarji (Sezzjoni 12.2)