Il-Ġermanja – Tagħmir tal-laboratorju, ottiku u ta' preċiżjoni (minbarra nuċċalijiet) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

IR-Ruhr-Universität Bochum jirnexxa jitħabba’ DRIE Ätzanlage li tħaddem fil-laboratorju ta’ r-riċerka Mikroelektronika Bochum għal Wafer-Substrate sa 200 mm fid-diametru. Tħaddem f’kategorija ta’ MEMS b’bażi ta’ silicju għall-ġib ta’ silicju anisotropiku tifliq, u tistgħu tħaddem fuq proċess ta’ ġib zikliku (DRIE, "BOSCH-Prozess"). Maħruġa tistgħu tħaddem għall-riċerka ta’ konċepti ġdida ta’ ġib li jistgħu jħallqu ġasijiet li jkollhom effett minori fuq il-klima.