Nederland – Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) – European Tender Electron Beam Lithography system

De Universiteit Twente is een aanbesteding uitgeschreven voor de aankoop van een Elektronenbundel Lithografie Systeem. Het MESA+ Instituut van de Universiteit Twente zal investeren in een nieuw Elektronenbundel Systeem (e-beam systeem). Een systeem, geschikt voor het definiëren van patronen in elektronengevoelige resisten, met hoge resolutie en hoge snelheid, compatibel met een breed scala aan toepassingen en substraattypen tot 200mm in diameter. Het systeem zal worden gebruikt door een breed scala aan gebruikers, namelijk academische onderzoekers en studenten, evenals industriële ingenieurs met verschillende achtergronden (fotonica, (nano)-elektronica enz.) en verschillende niveaus van expertise.