Spanje – Micro-elektronische machines en toestellen en microsystemen – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Deze rapport heeft tot doel de noodzaak en geschiktheid van de aanbesteding van de levering, installatie, ingebruikname, validatie en bijbehorende opleiding van een systeem voor litografie door directe laserbewerking (Direct Laser Writing, DLW) te rechtvaardigen, conform artikel 28 van de Wet 9/2017, van 8 november, van Openbare Overheden (LCSP), waarmee de Europese Parlement en Raad Richtlijnen 2014/23/UE en 2014/24/UE van 26 februari 2014 in het Spaanse recht worden overgenomen, evenals de overeenstemmende bepalingen die de uitwerking van een rapport over onvoldoende middelen, noodzaak en geschiktheid van de overeenkomst voorafgaand aan het begin van het aanbestedingsprocedé verplichten. Het apparaat is bestemd voor de Wetenschappelijke en Technische Singuliere Infrastructuur (ICTS) MICRONANOFABS, het Spaanse netwerk van micro- en nanofabricagekamers geïntegreerd in de Nationale ICTS Kaart van het Ministerie van Wetenschap, waarvan de Micro- en Nano Fabricage Infrastructuur van het Nanofotonische Technologie Centrum (NTC) van de Universitat Politècnica de València (UPV) deel uitmaakt, samen met het Nationaal Centrum voor Microelektronica (CSIC) en het Technologie Centrum van ISOM (UPM). De installatie zal zich bevinden in de Witte Kamer van gebouw 8F van het NTC-UPV. Het Nanofotonische Technologie Centrum voert onderzoek en productie uit in de gebieden van geïntegreerde fotonica, nanotecnologie, biosensorica, micro-optica en microfluïde systemen. Tot de gewone geproduceerde apparaten behoren geïntegreerde fotonische schakelingen (PICs), fotonische biosensoren, nano-antennes, optische resonators, fotonische kristallen, diffractieve optische elementen, metalenzen en microlenzen, driedimensionale structuren verkregen door Gray Scale litografie, MEMS-apparaten, microfluïde systemen en fotonische hybride componenten en capsules. Deze apparaten vereisen het combineren van productieprocessen met nanometrische en micrometrische resoluties, hoge niveaus van geometrische nauwkeurigheid, multicapalaanpassing en een hoge productiviteit die het mogelijk maakt om complete apparaten en wafers te produceren in tijden die compatibel zijn met onderzoek en de levering van technologische diensten. Daarom is het nodig om een litografisch systeem te verkrijgen dat tegelijkertijd een hoge resolutie, hoge schrijfsnelheid, mechanische stabiliteit, positie-nauwkeurigheid en flexibiliteit biedt om te werken op een breed scala aan materialen en substraatgrootten. Als ICTS geïntegreerd in het MICRONANOFABS-netwerk, biedt het NTC-UPV diensten van micro- en nanofabricage aan nationale en internationale onderzoeksgroepen en bedrijven in het kader van competitieve projecten, technologieoverdrachtoverdrachten en geavanceerde diensten. Het apparaat zal deel uitmaken van de wetenschappelijke infrastructuur van het centrum en zal worden gebruikt voor de ontwikkeling van nationale en internationale onderzoekprojecten, technologieoverdrachtoverdrachten met bedrijven en levering van productiediensten aan interne en externe gebruikers. Deze conditie van een gedeelde singularisatie-infrastructuur verplicht tot het behoud van een instrumentale uitrusting die is geactualiseerd, robuust en met prestaties in overeenstemming met de staat van de kunst, in lijn met de doelstellingen van PERTE Chip voor het versterken van de nationale capaciteiten van micro-elektronica en fotonica. De aanbesteding is daarom noodzakelijk voor het voldoen aan en realiseren van de institutionele doelen van de ICTS MICRONANOFABS-NTC, zonder dat er eigen middelen zijn die voldoen aan de eisen van artikel 28 LCSP.