Frankrijk – Elektromechanische uitrusting – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

Het CEA Leti, voor zijn onderzoekactiviteiten, die gericht zijn op het ontwikkelen van de technologieën FDSOI 10nm en verder (FDSOI10), wil een FEOL/MEOL etsapparatuur voor zijn reinruimte aankopen. De apparatuur kan wafers van 300mm verwerken en maakt het mogelijk om hoogselectief en isotropisch silicium (Si) en silicium-germanium (SiGe) te etsen. Het omvat de volgende verplichte opties: - Optie 1: Process 7 (gravure van de spacer SiCO) - Optie 2: Process 8 (gravure van de spacer en SADP) - Optie 3: Onderhoudsopleiding Niveau 1 evenals de kosten van de volgende optionele opties: - Optie 4: Warmtewisselaars (Heat exchangers) en koelsystemen (chillers) (sectie 3.2.6) - Optie 5: Elektrische transformator (Power supply transformer) (sectie 4.1.4) - Optie 6: Geavanceerde onderhoudsopleiding (hoofdstuk 9) - Optie 7: Preventieve, correctieve onderhouds- en noodzakelijke vervangingsonderdelen (sectie 12.2)