Spanje – Micro-elektronische machines en toestellen en microsystemen – Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Het team zal worden toegewezen aan de Wetenschappelijke en Technische Singulaire Infrastructuur (ICTS) MICRONANOFABS, het Spaanse netwerk van micro- en nanofabricagekamers geïntegreerd in de Nationale ICTS Kaart van het bevoegde Ministerie van Wetenschap, waarvan de Micro- en Nano Fabricatie Infrastructuur van het Nanofotonische Technologiecentrum (NTC) van de Universitat Politècnica de València (UPV) deel uitmaakt, samen met het Nationaal Centrum voor Microelektronica (CSIC) en de Technologie Centrale van ISOM (UPM). De installatie zal zich bevinden in de Witte Kamer van gebouw 8F van het NTC-UPV. Het Nanofotonische Technologiecentrum ontwikkelt productieprocessen van geïntegreerde fotonische apparaten, biosensors, componenten van geïntegreerde optica, kwantumapparaten, microelektromechanische systemen (MEMS), microfluïdische structuren en nanofotonische systemen op een brede variëteit van materialen, waaronder silicium, siliciumnitride, glas, kwarts, III-V materialen, dielectrische materialen en hybride structuren. Als ICTS geïntegreerd in het MICRONOFABS netwerk biedt het NTC-UPV diensten van micro- en nanofabricage aan nationale en internationale onderzoeksgroepen, evenals aan bedrijven, in het kader van competitieve projecten, technologieoverdrachtscontracten en geavanceerde dienstverlening. Deze conditie van gedeelde singularaire infrastructuur verplicht tot het onderhouden van een actuele, robuuste en prestaties die overeenkomen met de staat van de kunst, die zowel de eigen onderzoeklijnen als de externe vraag van de wetenschappelijke en industriële gemeenschap kunnen beantwoorden, in lijn met de doelstellingen van het PERTE Chip voor het versterken van de nationale capaciteiten van microelektronica en fotonica. Veel van de apparaten die in de infrastructuur worden geproduceerd, vereisen processen van fysieke gravering met hoge precisie op materialen waarvoor conventionele chemische graveringsprocessen (nat) niet de benodigde oppervlaktekwaliteit, anisotropie of selectiviteit bieden. Bovendien vereist de toenemende complexiteit van de ontwikkelde apparaten het beschikken over processen met een hoge herhaalbaarheid, met nauwkeurige controle van de invalshoek van de bundel, hoge processtabiliteit, automatisering en continue monitoring.