Duitsland – Laboratoriuminstrumenten, optische en precisie-instrumenten (uitgezonderd brillen) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

De Ruhr-Universität Bochum heeft de intentie een DRIE-ätzinstallatie aan te schaffen, die in het Microelectronics Research Laboratory Bochum voor wafersubstraten tot 200 mm diameter moet worden gebruikt. Het moet op het gebied van siliciumgebaseerde micro-elektromechanische systemen (MEMS) worden gebruikt voor diep anisotroop siliciumätzen op basis van een cyclisch etsproces (DRIE, "BOSCH-proces") en bovendien dienen aan het onderzoek naar nieuwe etsconcepten die minder klimaatschadelijke etsgassen gebruiken.