Niderlandy – Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) – European Tender Electron Beam Lithography system

Uniwersytet Twente ogłasza przetarg na zakup systemu litografii wiązki elektronowej. Instytut MESA+ Uniwersytetu Twente zainwestuje w nowy system wiązki elektronowej (system e-beam). System, odpowiedni do definiowania wzorców w rezystach czulnych na elektron, o wysokiej rozdzielczości i wysokiej prędkości, kompatybilny z szerokim zakresem zastosowań i typów podłoża o średnicy do 200 mm. System będzie wykorzystywany przez szeroki zakres użytkowników, tzn. akademickich badaczy i studentów oraz inżynierów przemysłowych z różnymi tłami (fotonika, (nano)-elektronika itp.) i różnym poziomem doświadczenia.